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EVG獲得用于晶圓級(jí)光學(xué)微透鏡制造的光刻和計(jì)量系統(tǒng)的訂單

更新時(shí)間:2022-03-16  |  點(diǎn)擊率:3417
  1. 新聞簡(jiǎn)介
 
  岱美儀器供應(yīng)商EV集團(tuán)(EVG)是面向MEMS,納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)的晶圓鍵合機(jī)和光刻設(shè)備的領(lǐng)仙供應(yīng)商,金天宣布已收到其制造設(shè)備和服務(wù)的權(quán)面組合產(chǎn)品組合的多個(gè)訂單,這些產(chǎn)品和服務(wù)旨在滿(mǎn)足對(duì)晶圓的新興需求,水平光學(xué)(WLO)和3D感應(yīng)。市場(chǎng)領(lǐng)仙的產(chǎn)品組合包括EVG®770自動(dòng)UV-納米壓印光刻(UV-NIL)步進(jìn)器,用于步進(jìn)重復(fù)式主圖章制造,用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的IQAligner®UV壓印系統(tǒng)以及EVG ®40NT自動(dòng)測(cè)量系統(tǒng),用于對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證。EVG的WLO解決方案由該公司的NILPhotonics®能力中心提供支持。
 
  2. 產(chǎn)品特色
 
  使用全新的壓印光刻技術(shù)和鍵合對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在晶圓級(jí)制造微透鏡,衍射光學(xué)元件和其他光學(xué)組件可帶來(lái)諸多好處。這些措施包括通過(guò)高度并行的制造工藝降低擁有成本,以及通過(guò)堆疊使蕞終器件的外形尺寸更小。EVG是納米壓印光刻和微成型領(lǐng)域的翹楚和市場(chǎng)向?qū)?,擁有大的工具安裝基礎(chǔ)。
 
  EV Group企業(yè)技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner博士證實(shí):“我們看到支持晶圓級(jí)光學(xué)器件的設(shè)備需求正在急劇增加。” “僅從今年年初開(kāi)始,我們就向大型WLO制造商交付了多個(gè)用于透鏡成型和堆疊以及計(jì)量的系統(tǒng),以進(jìn)行大批量生產(chǎn)。此類(lèi)訂單進(jìn)一步鞏固了EVG在該領(lǐng)域市場(chǎng)嶺導(dǎo)者的地位,同時(shí)創(chuàng)造了新興應(yīng)用程序中有大量新機(jī)會(huì)。”
 
  業(yè)界領(lǐng)仙的設(shè)備制造商蕞近宣布了擴(kuò)大其傳感領(lǐng)域業(yè)務(wù)目標(biāo)的計(jì)劃,以幫助解決客戶(hù)日益激進(jìn)的上市時(shí)間窗口。根據(jù)市場(chǎng)研究和策略咨詢(xún)公司YoleDéveloppement的說(shuō)法,下一代智能手機(jī)中正在設(shè)計(jì)十多種傳感器。其中包括3D感測(cè)相機(jī),指紋傳感器,虹膜掃描儀,激光二極管發(fā)射器,激光測(cè)距儀和生物傳感器??傮w而言,光纖集線器預(yù)計(jì)將從2016年的106億美元增長(zhǎng)到2021年的180億美元,復(fù)合年增長(zhǎng)率超過(guò)11%。
 
圖1  晶圓級(jí)微鏡頭模組
 
  對(duì)EVG WLO制造解決方案的需求在一定程度上是由對(duì)用于移動(dòng)消費(fèi)電子產(chǎn)品的新型光學(xué)傳感解決方案和設(shè)備的需求驅(qū)動(dòng)的。關(guān)鍵示例包括3D感測(cè)(對(duì)于獲得更真實(shí)的虛擬和增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)(VR / AR)用戶(hù)體驗(yàn)至關(guān)重要),生物特征感測(cè)(對(duì)于安全應(yīng)用而言越來(lái)越關(guān)鍵),環(huán)境感測(cè),紅外(IR)感測(cè)和相機(jī)陣列。其他應(yīng)用包括智能手機(jī)中用于高級(jí)深度感應(yīng)以改善相機(jī)自動(dòng)對(duì)焦性能的其他光學(xué)傳感器以及微型顯示器。
 
  EV Group企業(yè)技術(shù)開(kāi)發(fā)兼IP總監(jiān)Markus Wimplinger表示:“毫無(wú)疑問(wèn),晶圓級(jí)光學(xué)和3D傳感技術(shù)正在出現(xiàn)高度可持續(xù)的趨勢(shì)。“由于在我們公司總部的NILPhotonics能力中心支持的大量正在進(jìn)行的客戶(hù)項(xiàng)目,我們預(yù)計(jì)在不久的將來(lái)將更廣范地使用該技術(shù)。”
 
  3. 產(chǎn)品型號(hào)
 
  EVG的WLO設(shè)備型號(hào)包括:
 
  EVG770自動(dòng)UV-NIL納米壓印步進(jìn)機(jī),用于制作主圖章。母模是晶圓大小的模板,里面*裝有微透鏡模具,每個(gè)模具都采用分步重復(fù)的方法從一個(gè)透鏡模板中復(fù)制。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開(kāi)始,提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程,具有無(wú)人能比的鏡片位置精度和膏端鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復(fù)性晶圓級(jí)相機(jī)模塊。
 
EVG770 納米壓印機(jī)
圖2 EVG770 納米壓印機(jī)
 
  IQ Aligner自動(dòng)UV-NIL納米壓印系統(tǒng),用于UV微透鏡成型。軟UV壓印光刻技術(shù)是用于制造聚合物微透鏡(WLO系統(tǒng)的關(guān)鍵要素)的高度并行技術(shù)。EVG從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開(kāi)始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其應(yīng)用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合。此外,EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關(guān)的材料專(zhuān)業(yè)知識(shí)。
 
IQ Aligner NT納米壓印機(jī)
圖3  IQ Aligner NT納米壓印機(jī)
 
  EVG40 NT自動(dòng)測(cè)量系統(tǒng)。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測(cè)量,計(jì)量對(duì)于驗(yàn)證是否符合嚴(yán)格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關(guān)重要。在WLO制造中,EVG的度量衡解決方案可用于關(guān)鍵尺寸(CD)測(cè)量和透鏡疊層對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證,以及許多其他應(yīng)用。
 
EVG40 NT計(jì)量設(shè)備
圖4  EVG40 NT計(jì)量設(shè)備
 
  *編者注:該市場(chǎng)數(shù)據(jù)的來(lái)源是YoleDéveloppement在2016年6月發(fā)布的“ 2016年手機(jī)和平板電腦傳感器”報(bào)告。
 
  4. 關(guān)于EV集團(tuán)(EVG)
 
  EV Group(EVG)是岱美儀器的供應(yīng)商,是制造半導(dǎo)體,微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS),化合物半導(dǎo)體,功率器件和納米技術(shù)器件的設(shè)備和工藝解決方案的領(lǐng)仙供應(yīng)商。主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合機(jī),薄晶圓處理,光刻/納米壓印光刻(NIL)和計(jì)量設(shè)備,以及光刻膠涂布機(jī),清潔劑和檢查系統(tǒng)。EV Group成立于1980年,為精致的客戶(hù)和合作伙伴提供服務(wù)并提供支持。
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